蝕刻（Etching）是一種利用化學反應或物理方法，對材料表面進行局部去除的加工技術。這種技術廣泛應用于金屬加工、半導體制造、印刷電路板（PCB）生產、玻璃和陶瓷制品的裝飾加工等領域。蝕刻可以用來創建精細的圖案、文字或設計，使材料表面具有特殊的紋理、形狀或功能。

蝕刻過程主要分為化學蝕刻和物理蝕刻兩大類：

化學蝕刻

化學蝕刻是使用化學溶液來溶解材料表面的某些部分，通常是金屬或其他固體物質。這個過程涉及到將待加工的材料浸泡在含有特定化學劑的蝕刻液中，這些化學劑會與材料表面發生反應，導致材料被選擇性地去除。

化學蝕刻通常包括以下幾個步驟：

設計準備：首先根據需要蝕刻的圖案，將設計轉移到金屬板或其他基材上。

涂覆保護層：在材料表面涂覆一層耐蝕刻的保護層（例如光阻或蠟），只有需要蝕刻的部分留出。

化學蝕刻：將材料浸入蝕刻液中，化學劑作用于裸露的部分，按照預定圖案將材料表面蝕刻掉。

清洗和去除保護層：蝕刻完成后，需要將剩余的保護層去除，清洗掉蝕刻液，并對產品進行后續處理。

物理蝕刻

物理蝕刻則是通過物理手段，如離子束、激光、噴砂等，來去除材料表面的部分。物理蝕刻不需要化學溶液，而是直接利用物理作用力實現材料的去除。

蝕刻的特點

高精度：化學蝕刻能夠實現非常精細的圖案和結構，最小線寬可達微米甚至納米級別。

無應力：與機械加工相比，蝕刻過程中不會對材料產生應力，因此加工后的材料不會發生變形或產生機械損傷。

成本效益：對于復雜的圖案和大批量生產，蝕刻通常成本較低，特別是在半導體和電子工業中。

可控性：蝕刻過程可以通過調節蝕刻液的成分、濃度、溫度和處理時間來控制蝕刻的深度和速率。

蝕刻技術是現代精密加工的重要手段，通過精確控制蝕刻條件，可以實現對材料表面的精細加工，滿足各種工業和藝術設計的需求。